 |
한국이와타니산업은 전자 산업과의 공생을 표어로 타사에 없는독특한 상품을
한국 시장에 제안 해 왔습니다.
특히, 반도체 제조장치용 클리닝가스에서는 이와타니의 오리지널 상품인 ClF3을
반도체 제조 공장에 공급하고 반도체 산업에 큰 기여를 하고 있습니다.
또한 이와타니에서 개발한 세계에 유례없는 고농도 오존가스를 이용한 금속표면
처리기술 오존패시베이션 ™은 첨단 장치 개발을 견인하는 한국 반도체 산업의
클린니즈에 부응합니다.
|
오존
패시베이션（Ozone Passivation）
이와타니산업은
세계에서 유례 없는 고순도 오존가스(80vol％이상) 의 제조, 저장, 발생에
성공하였습니다.
본 고순도 오존가스를 활용하여, 다양한
오존 관련 상품을 개발 중입니다.
【 용도 】 1. 내식성 향상 → 녹 발생 억제. 부식성 가스 유저 2. 진공 배기 특성 향상 → 유기물 제거. 진공 프로세스 유저 3. 오존 분해 억제 → 오존 실린더 4. 부생성물 부착 억제 → 오염 성분 세정성 향상 5. 용출 금속량 절감 → 용출 억제. 고품질 액체 유저 |
HCL 노출 후 SEM관찰 (100％HCl, 60℃, 6일간) |
BF3노출 후 밸브 내부 (100％BF3, 실온,10개월) 전해연마SUS316L |
삼불화염소 (ClF3 - chlorine
trifluoride）
이와타니는 1985년 반도체
제조장치용 클리닝가스 연구를
시작으로 삼불화염소(ClF3)를 사용한
클리닝 방법을 1989년
세계
최초로 실현했습니다.
현재 ClF3는 전
세계의 많은 반도체 업체에 공급되고 있습니다.
ClF3는 이와타니가 용도
개발한 가스이며,
지속적으로 ClF3의 신규
용도 개발을 하고 있습니다.
앞으로도
전 세계에서 새로운 분야,
용도로의
사용이 기대되고 있습니다.
Applications
● Poly Silicon (Doped Poly Silicon) LPCVD
● Silicon Nitride LPCVD
● Silicon Oxide (TEOS) LPCVD
● Tungsten
● Titanium Nitride ● Tantal Oxide |
Challenging Applications ● Epi-Growth CVD and exhaust piping
● SiC Epi-Growth CVD and exhaust piping
● Wafer selective etching（SiO/Si、SiO/W,SiO/SiN etc..）
● Next Generation Cleaning & Etching(Mo,WClx,Ru etc….)
● MOCVD and exhaust piping ● α-Si CVD and exhaust piping (TFT) |
【 화학 반응으로 가루가 가스화 】 |
【 클리닝 전 】 |
|
【 클리닝 후 】 |
중수소 (D2-Deutrium）
안정된【 공급능력 】·【 품질 】
상업용 일본 최초, 일본생산 중수소
기존 수출국의 수출 제한에서 자유로운 안정 공급을 실현. 또한 수소의 노하우를 이용한 생산기술을 확립하여 대 수요 시대에 대응할 수 있는 생산 능력을 보유하고 있습니다. | 
개발거점(이와타니산업 중앙연구소)
|
【 사용분야 】
|
|
 반도체 |
 광섬유 |
